软磁合金磁性膜的饱和磁通密度（Bs）和矫顽力（Hc）在使用之前退火通过VSM测量。此外，通过四端子法测量合金磁性膜的电阻率（ρ）。

随后，通过VSM测量热处理之后的合金磁性膜的饱和磁通密度和矫顽力。此外，通过四端子法测量合金磁性膜的电阻率。展示出了组成为Fe69.8Sm11.0O19.2的合金膜的饱和磁通密度，矫顽力和电阻率的测量结果。在图在图1中，饱和磁通密度由（-。小圆圈-。小圆圈-）表示，矫顽力由（-。圆圈-固体-。圆圈-固体）表示，并且电阻率由（-Δ-Δ-）。同样，示出了组成为Fe68.5Ho11.5O20.0的合金膜的饱和磁通密度（Bs），矫顽力（Hc）和电阻率（ρ）的测量结果。在图在图2中，饱和磁通密度由（-。小圆圈-。小圆圈-）表示，矫顽力由（-。圆圈-固体-。圆圈-固体）表示，并且电阻率由（-Δ-Δ-）。

       从中可以看出，具有Fe69.8 Sm11.0 O19.2组成的本发明合金膜具有12.1 kG的高饱和磁通密度，15 Oe的低矫顽力和610μΩ.cm的高电阻率因此，表明良好的软磁性能，并且从图5可以看出。由图2可知，本发明的具有Fe68.5Ho11.5O20.0组成的合金膜的饱和磁通密度较低，为8.9kG，矫顽力较低，为6.50Oe。其比电阻1800μΩ.cm。